多靶磁控溅射系统磁场优化设计
磁控溅射系统中的磁场分布对溅射过程的稳定性、离化率、靶材利用率及成膜质量都有着重要影响,合理的磁场分布可以使靶材附近的等离子体分布更加均匀,进而减小靶材上不同位置溅射速率的差异,使刻蚀速度差别进一步减小,增加靶材的刻蚀范围,延长靶材的寿命。 同样,合理的磁场设计能够提高溅射过程的稳定性。本文针对六靶复合表面改性设备进行磁场系统的模拟和计算,主要介绍了该系统的磁场分布,并利用有限元方法对磁场进行了模拟,以得到较为理想的磁场分布,为进一步优化设计提供理论依据。
闭合场非平衡磁控溅射 有限元模拟 磁场优化设计
庞恩敬 朱颖 李芬 李刘合 卢求元 朱剑豪
北京航空航天大学,机械学院,材料加工与控制系 100191 香港城市大学,应用物理及材料系
国内会议
大连
中文
307-317
2010-06-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）