176Hf(n,2n)175Hf反应截面测量

摘要：

本文采用相对测量技术,以活化法对13.4～14.8 Mev范围内的176Hf(n,2n)175Hf反应截面进行了测量。样品固定在距离D-T中子源20cm处的圆环的不同位置上进行中子辐照,采用93Nb(n,2n)92Nbm作为监测反应,活化产物采用高纯锗探测器进行了测量,所得14 MeV附近的176Hf(n,2n)175Hf反应截面实验值为(2 100±85)mb,对实验结果与公开文献值和ENDF/B6.8评价库数据进行了比对。

关键词： 反应截面 相对测量 活化法 高纯锗探测器

作者: 朱传新 郑普 郭海萍 牟云峰 何铁 阳剑

作者单位: 中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届(2010年)北京核学会核技术应用学术交流会

会议地点: 苏州

会议语种:中文

页码: 7-11

在线出版日期: 2010-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）