高功率准分子激光主振荡功率放大系统光学元件的稳定性
为了分析高功率准分子激光主振荡功率放大(MOPA)系统中各光学元件稳定性对靶面光斑定位精度的影响，本文建立了分析模型，利用分析结果指导高稳定性镜架设计以满足系统实验需求。根据高功率准分子激光MOPA系统特点，有效地简化了系统光路，建立了系统光路模型;按照系统打靶精度要求，利用三维坐标变换和光线追迹法，计算得到了系统单个光学元件稳定性对靶面光斑定位精度的影响规律;最后，对自行设计的镜架进行了稳定性测量。计算结果表明，反射镜的旋转变化和透镜垂直光轴的平移变化是影响靶面光斑定位精度的主要因素，且主放大光路中反射镜在X方向和Y方向上最大的变化范围分别不能超过0．8和1．6μrad。实际测量结果表明，设计的镜架在X方向和Y方向最大的变化范围分别为0．6和O．81μrad，满足系统实验要求。
准分子激光 主振荡功率放大系统 坐标变换 光线追迹 稳定性
沈炎龙 黄珂 马连英 郑国鑫 王大辉
西北核技术研究所,激光与物质相互作用国家重点实验室,陕西 西安 710024
国内会议
长春
中文
66-71
2010-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）