高功率XeCl准分子激光系统前端平滑实验
为得到物面光强分布均匀、能量尽量大的部分相干Xecl准分子激光前端种子光，本文采用放大自发辐射(ASE)法和散射法开展了前端平滑实验研究。首先，基于一台窄脉冲XeCl准分子激光器，研究了种子光的物面光斑均匀性、能量和发散角随光束口径及物面位置的变化规律。然后，分析了影响种子光参数的因素。最后．进行了验证实验。实验结果显示：ASE法种子光物面光斑不均匀性最小为2．01％，能量为微焦量级。但发散角在水平和竖直方向有较大差别;散射法种子光物面光斑不均匀性最小为1．54％，能量为百纳焦量级，发散角为5．5 mrad。衍射极限倍数处于14～37可调。前端泵浦腔尺寸和入射激光能量、散射板上光斑大小、收集透镜焦距分别是影响两种种子光参数的重要因素。经初级放大器放大后，光束物面光斑不均匀性为2．04％，能量达到8．0mJ，满足高功率XeCl准分子激光角多路系统建设需求。
准分子激光 XeCl激光 光束平滑 均匀性 放大自发辐射 散射
薛全喜 赵学庆 华恒祺 郑国鑫 张永生
西北核技术研究所 激光与物质相互作用国家重点实验室,陕西 西安 710024
国内会议
长春
中文
232-239
2010-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）