2m比长仪纳米级高精度刻线自动瞄准系统

摘要：

阐述了2 m比长仪刻线瞄准系统的组成，对其光电显微刻线成像的原理及刻线图像信号进行了分析，根据其刻线信号的特点，研究了其高精度的刻线信号自动处理系统，该系统基于FPGA现场可编程电路技术，实现刻线信号的自动门控触发、自动滤除虚假刻线信号，配合计算机信号自动处理软件可以实现刻线测量的高精度自动瞄准。最后对2 m比长仪的瞄准精度进行了测试实验，实验结果表明，测量金属标准线纹尺时，2 m比长仪单次测量刻线瞄准精度优于10 nm(1σ)。

关键词： 计量学 比长仪 动态校准 位移传感器 刻线瞄准系统

作者: 叶孝佑 高宏堂 邹邻丁 张晓 甘晓川 孙双花 常海涛 沈雪萍 陈黎云

作者单位: 中国计量科学研究院,北京 100013 浙江计量科学研究院,浙江 杭州 310013 北京航空航天大学,北京 100191

会议类型: 国内会议

会议名称: 2010年全国几何量精密测量技术学术交流会

会议地点: 桂林

会议语种:中文

页码: 107-111

在线出版日期: 2010-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）