纸张表面射频磁控溅射SiOx薄膜的研究
氧化硅薄膜因其优异的阻隔、电学、光学以及环境友好性能而广泛应用于各种工业场合，可以在多种衬底上制备硅氧化物,常见的如硅、玻璃和聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)，然而目前所见报端的文献很少有以纸张为基材的。本文即研究在纸张表面射频磁控溅射沉积氧化硅薄膜,讨论沉积氧化硅薄膜射频功率密度、沉积时间等工艺参数对沉积速率,薄膜表面粗糙度、薄膜机械性能、薄膜的阻隔性能的影响。利用原子力显微镜(AFM)观察薄膜的表面形貌,结果表明,沉积氧化硅薄膜后表面更加均匀且平滑.沉积氧化硅薄膜后纸张的横向,纵向弹性模量和拉伸强度明显增加。在射频功率密度2.78 W/cm~2、氩气流量40 sccm、沉积时间为36min的制备参数下所沉积的薄膜对水蒸气的阻隔提高了15倍。此外,本文还研究了沉积氧化硅薄膜后纸张的色彩再现印刷适性。
氧化硅薄膜 磁控溅射 粗糙度 印刷适性
刘壮 孙智慧 马新欣 林晶
哈尔滨商业大学,轻工学院,哈尔滨,150028;哈尔滨工业大学,材料科学与工程学院,哈尔滨,150001 哈尔滨工业大学,材料科学与工程学院,哈尔滨,150001 哈尔滨商业大学,轻工学院,哈尔滨,150028
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413-416,421
2010-11-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）