基于正交试验的双离子束溅射沉积系统参数优化设计

摘要：

离子束溅射沉积薄膜技术广泛用于高质量半导体薄膜和光学薄膜的制备工艺，在制备过程中生长条件的选取决定了薄膜的质量和性能。本文采用LDJ-2A-F150双离子束溅射系统在宝石衬底上沉积Au膜，通过正交试验设计优化Au膜沉积参数，重点研究了离子束能量，束流和加速电压三个因素。通过对Au膜归一化电阻和室温、低温电阻变化率的正交分析得到：离子束流对归一化电阻和电阻变化率影响最大，并获得了最佳的生长条件。这表明：正交试验设计可以作为双离子束溅射系统参数的有效优化方法，该方法也可用于对光学薄膜制备的参数进行优化。

关键词： 正交试验 离子束溅射沉积 归一化电阻 薄膜技术

作者: 钱大憨 贾嘉 汤亦聃 乔辉 李向阳

作者单位: 中国科学院上海技术物理研究所 传感技术国家重点实验室,上海 200083 中国科学院上海技术物理研究所 中科院红外成像材料与器件重点实验室,上海 200083 中国科学院研究生院,北京 100039 中国科学院上海技术物理研究所 传感技术国家重点实验室,上海 200083 中国科学院上海技术物理研究所 中科院红外成像材料与器件重点实验室,上海 200083

会议类型: 国内会议

会议名称: 第九届全国光电技术学术交流会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 719-723

在线出版日期: 2010-05-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）