利用硅各向异性腐蚀制作各种微光学结构
利用”100”晶向硅在KOH：H2O中经过两步各向异性腐蚀制作各种微光学结构。此方法的关键步骤是掩膜版图的设计。研究中通过计算机编程实现一组版图设计算法，根据期望的轮廓设定一系列参数后，可以仿真得出最终腐蚀出来的轮廓。根据程序输出的版图数据制作光刻掩膜版，然后通过单步光刻和两步湿法腐蚀制作最初期望的轮廓。利用此方法可以高效快速的设计版图，并通过后续工序，制作各种非球面、不规则的微光学结构。研究中利用此算法设计实现了一系列512×512阵列凹透镜，并对其表面轮廓、粗糙度和光学性能等进行了测试。测试结果表明：表面轮廓和粗糙度达到光学镜面要求，具有良好的光学性能。
硅各向异性腐蚀 微光学结构 掩膜版 高效设计 阵列凹透镜
李斌 张新宇 谢长生 张天序
华中科技大学 图像识别与人工智能研究所,湖北 武汉 430074 华中科技大学 武汉光电国家实验室,湖北 武汉 430074 华中科技大学 武汉光电国家实验室,湖北 武汉 430074 华中科技大学 图像识别与人工智能研究所,湖北 武汉 430074
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2010-05-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）