非球面凹透镜阵列的设计制作与性能研究

摘要：

基于单晶硅的各向异性腐蚀特性，采用两步湿法腐蚀制作出非球面凹透镜阵列。第一步湿法腐蚀，利用”100”面与”111”面腐蚀特性不同和腐蚀自动停止的原理在硅表面形成形态良好的倒金字塔结构;在第二步腐蚀中，利用”111”面与”114”面腐蚀特性，继续腐蚀，形成凹球面透镜阵列。通过测试所制样品的表面形态和光学性能得知，阵列重复性良好，填充率很高，表明通过二次湿法腐蚀在硅表面制作凹透镜阵列结构，不仅步骤简单，易于控制，节约造价，而且效果更好。

关键词： 凹透镜阵列 非球面 各向异性 两步湿法腐蚀

作者: 魏明月 张新宇 张天序

作者单位: 华中科技大学 图像识别与人工智能研究所,湖北 武汉 430074 华中科技大学 武汉光电国家实验室,湖北 武汉 430074 华中科技大学 图像识别与人工智能研究所,湖北 武汉 430074

会议类型: 国内会议

会议名称: 第九届全国光电技术学术交流会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 744-747

在线出版日期: 2010-05-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）