原位制备纳米结构的电子束诱发沉积方法
随着材料精细结构的研究需求和相关理论和制造技术的发展，电镜内电子束斑的尺寸越来越小，已经能够实现纳米束斑下的原子尺度表征分析。由于电子束较小的束斑尺寸和可操作性，类似于聚焦离子柬，被看作是一种具有良好发展前景的纳米结构制造技术。其中，电子束诱导沉积(Electron beaminduced deposition，EBID)足近二十年来发展较为迅速的一种聚焦电子柬制造方法，可以实现电镜内纳米结构的原位制备。其原理是利用电镜的微小束斑，与样品室的含金属成分气体相互作用，从而分解出金属原子沉积形成纳米结构。
原位制备 纳米结构 电子束诱发沉积方法
刘志权
中国科学院金属研究所,沈阳材料科学国家实验室,辽宁 沈阳 110016
国内会议
2010年全国电子显微学会议暨第八届海峡两岸电子显微学研讨会
杭州
中文
48-49
2010-10-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）