优化凸起图案的固结磨料抛光垫高效低成本加工硅片的研究

摘要：

抛光垫是化学机械抛光(CMP)中的重要组成部分，其磨损均匀性能是影响加工后工件平面度的重要因素。本文比较了具有优化凸起图案的目结磨料抛光垫(FAP)、凸起均布的FAP和聚氨酯游离磨料抛光垫的研磨抛光性能，结果表明：利用优化凸起图案的FAP加工可以得到更加优异而稳定的表面质量，材料去除效率远高于游离磨料的加工方式。

关键词： 固结磨料抛光垫 凸起图案 均匀磨损性

作者: 叶剑锋 朱永伟 王俊 李军

作者单位: 南京航空航天大学机电院 南京 210016

会议类型: 国内会议

会议名称: 2010海峡两岸超硬材料技术发展论坛

会议地点: 西安

会议语种:中文

页码: 60-64

在线出版日期: 2010-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）