Al-AlN太阳能选择性吸收涂层的中频溅射工艺研究

摘要：

本文探讨了AlN膜和渐变Al-AlN选择性吸收涂层的中频溅射技术，研究结果表明：增大铝靶电流或减小氩气流量有助于改善AlN反应溅射的工艺稳定性；随着氮气流量的增加，AlN膜的氮铝原子比增大，增大氩气流量或减小铝靶电流使AlN膜成分更难满足理想化学计量比要求；AlN膜的致密性随着氮气流量和铝靶电流的增大而得到改善，但氩气流量对AlN致密性没有明显影响；制备的渐变Al-AlN选择性吸收涂层可见光反射率低于6％，具有很好的光谱选择性。

关键词： Al-AlN 选择性吸收涂层 中频反应溅射 工艺参数

作者: 付志强 王成彪 岳文 周家斌 彭志坚 于翔

作者单位: 中国地质大学(北京)工程技术学院，北京 100083

会议类型: 国内会议

会议名称: 2009中国材料研讨会

会议地点: 苏州

会议语种:中文

页码: 110-114

在线出版日期: 2009-10-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）