石墨表面钨涂层的多弧离子镀制备与性能研究
钨由于高熔点、低溅射率、低的氚滞留性能等优点而被广泛的认为是最有希望的核聚变装置面对等离子体材料.采用多弧离子镀在高纯石墨基体表面制备了钨涂层,通过X射线衍射仪(XRD)、金相显微镜(OM)、扫描电镜(SEM)和彩色3D 激光显微镜对涂层的相结构、微观结构、表面形貌和表面粗糙度等进行了分析.结果表明:通过多弧离子镀制备的钨涂层厚度约为3～10 μm;XRD 分析发现钨涂层具有(110)面的择优取向;石墨基体表面包括石墨的开孔部分都均匀覆盖了一层钨涂层;涂层连续、致密,与基体结合非常紧密,与基体界面平整;其平均表面粗糙度Ra 为1.2 μm.
多弧离子镀 面对等离子体材料 PVD-W涂层
练友运 刘翔 许增裕 金凡亚 沈丽如
核工业西南物理研究院,四川成都 610041
国内会议
北京
中文
3867-3871
2009-11-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）