基底温度对反应磁控溅射氮化铝薄膜的影响

摘要：

采用反应磁控溅射法在光学玻璃基底上制备AlN薄膜，研究了温度对薄膜结构、硬度及光学性能的影响。结果表明，用此方法获得的AlN薄膜是晶态的，温度对AlN的择优取向有一定影响。随沉积温度升高，薄膜硬度及弹性模量增大。在可见光区域AlN薄膜透明。基底温度对薄膜折射率也有较明显影响，折射率大致随温度升高而增大，但椭偏及透射谱线测试结果表明，随温度升高，AlN薄膜的沉积速率下降。

关键词： 氮化铝薄膜 基底温度 反应磁控溅射法

作者: 张琳琳 黄美东 李鹏 王丽格 佟莉娜

作者单位: 天津师范大学物理与电子信息学院,天津 300387

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国固体薄膜会议

会议地点: 南宁

会议语种:中文

页码: 43-46

在线出版日期: 2010-11-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）