柔性衬底ZAO薄膜制备及光电特性的研究

摘要：

采用直流磁控溅射法在柔性衬底上镀制ZAO透明导电薄膜，全面研究了氧气流量、薄膜厚度、镀膜温度、溅射气压、溅射速率等工艺条件对ZAO薄膜光电性能的影响。结果表明：当氧氩比为0.5／40、膜厚在110 nm以上、镀膜温度为80-160℃、溅溅射气压在0.5 Pa左右、溅射速率为3.6nm／min时，ZAO薄膜的光电性能较好，并且得到了电阻率8.8×10-4Ω·cm，可见光透过率大于80％的柔性衬底ZAO薄膜。

关键词： 磁控溅射 柔性衬底 ZAO薄膜 电阻率 透光率

作者: 辛荣生 林钰 贾晓林

作者单位: 郑州大学材料科学与工程学院,河南 郑州 450052 河南教育学院化学系,河南 郑州 450014

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国固体薄膜会议

会议地点: 南宁

会议语种:中文

页码: 230-234

在线出版日期: 2010-11-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）