负偏压对多弧离子镀TiN薄膜结构和沉积速率的影响

摘要：

采用多弧离子镀设备在抛光后的高速钢表面沉积TiN薄膜，在其他参数不变的情况下，着重考察偏压对薄膜的沉积速率的影响。实验结果表明，随着负偏压的增加，沉积速率不断增加，但在一定的负偏压达到最大值后，沉积速率又随偏压增大而减小。

关键词： 多弧离子镀 TiN薄膜 负偏压 沉积速率

作者: 佟莉娜 黄美东 李鹏 张琳琳 王丽格

作者单位: 天津师范大学 物理与电子信息学院,天津 300387

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国固体薄膜会议

会议地点: 南宁

会议语种:中文

页码: 224-246

在线出版日期: 2010-11-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）