电子束光刻加工圆形阵列图形的新方法
利用高斯型束斑/矢量扫描式电子束曝光机的工作模式特点,通过设计特定的矩形线条,设置特定的扫描步长以及曝光剂量,得到了多种不同直径(20～60nm),不同间距(50～100nm)的圆孔状纳米阵列,图形与图形之间最小间隙小至10nm。该工艺方法最大的优势在于,与传统直接加工的圆形阵列相比,整个流程中不需要使用圆弧状图形数据,使其在数据处理方面花费的时间会大大缩短。
电子束光刻 圆孔阵列 圆柱阵列
时文华
中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 纳米加工平台 苏州
国内会议
西安
中文
155-158
2010-10-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）