砷化镓晶片表面微量杂质及分析技术

摘要：

本文探讨了砷化镓晶片表面的微量杂质及其来源分析。着重介绍了全反射X射线荧光光谱(TXRF),气相分解-电感耦合等离子体发射光谱-质谱(VPD-ICP-MS),飞行时间二次离子质谱(TOF-SIMS)等现代表面分析技术在测量分析砷化镓晶片表面微量杂质中的应用。简要介绍了各分析技术的原理以及各技术的特点和局限。

关键词： 表面微量杂质 分析技术 砷化镓晶片

作者: 任殿胜 王佳 高涛 刘文森

作者单位: 北京通美晶体技术有限公司,北京 101113

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十六届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议

会议地点: 西安

会议语种:中文

页码: 294-297

在线出版日期: 2010-10-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）