NiO薄膜的结构和光学特性研究
采用金属有机化学气相沉积(MDCVD)方法在Si衬底上制备了NiO薄膜,扫描电子显微镜(SEM)和x射线衍射(XRD)分析显示,随着温度的升高NiO薄膜晶体质量得到了进一步的改善,并呈现(200)择优取向的趋势。紫外-可见分光光度计(UV)测试结果表明,随着温度的升高,NiO薄膜的平均透过率也得到了提高,其中400nm附近最高透过率为96％,通过线性外推作图法得到NiO薄膜的禁带宽度大约为3.70eV。晶体结构和光学特性的研究表明，NiO薄膜是一种优良的透明导电材料。
NiO薄膜 MOCVD 透射率 线性外推作图法 透明导电材料
王辉 赵龙 史志锋 王瑾 赵旺 董鑫 杜国同
集成光电子国家重点联合实验室吉林大学实验区,吉林大学电子与信息工程学院,长春 130012 集成光电子国家重点联合实验室吉林大学实验区,吉林大学电子与信息工程学院,长春 130012 大连理工大学物理与光电工程学院,辽宁 大连 116023
国内会议
西安
中文
355-358
2010-10-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）