会议专题

纳米折叠InGaN/GaN多量子阱发光二极管

以自组织Ni掩膜制作了高约1um,直径约100-300nm,柱间距约130-300nm的n-GaN纳米柱模板,并利用MOCVD法在纳米柱模板上外延生长了具有折叠InGaN/GaN多量子阱(MQW)结构的LED材料,并对其进行了结构和发光性质方面的一些测试。测试结果表明折叠InGaN/GaN多量子阱(MQW)结构的LED材料光致发光(PL)谱强度是常规平面结构的2倍。测试了该外延片上制作的LED的电致发光谱,随着注入电流增加,未发现明显蓝移,表明纳米柱上外延生长的多量子阱具有较低的压电极化电场。

n—GaN 纳米柱 光致发光 电致发光 发光二极管

谭小动 陈贵锋 郝秋艳 朱建军 刘宗顺 赵德刚 张书明

河北工业大学材料学院,天津 300130 中国科学院半导体研究所,集成光电子学国家重点实验室,北京 100083

国内会议

第十六届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议

西安

中文

430-432

2010-10-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)