激光光绘技术在MIC掩模版制作中的应用与实践

掩膜版制备是微波集成电路制作的重要环节。传统掩模版制作方法存在精度差、效率低等缺点,本文通过激光光绘技术在MIC掩模版制作中的实践和工艺探索,提出了以激光光绘技术改进掩模版制作工艺的一种可行途径。
微波集成电路 激光光绘技术 掩模版
夏维娟 张璇 孙学敏 王峰 白浩 王平
中国空间技术研究院西安分院 西安 710000
国内会议
浙江
中文
1-5
2010-10-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
微波集成电路 激光光绘技术 掩模版
夏维娟 张璇 孙学敏 王峰 白浩 王平
中国空间技术研究院西安分院 西安 710000
国内会议
浙江
中文
1-5
2010-10-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)