会议专题

激光光绘技术在MIC掩模版制作中的应用与实践

掩膜版制备是微波集成电路制作的重要环节。传统掩模版制作方法存在精度差、效率低等缺点,本文通过激光光绘技术在MIC掩模版制作中的实践和工艺探索,提出了以激光光绘技术改进掩模版制作工艺的一种可行途径。

微波集成电路 激光光绘技术 掩模版

夏维娟 张璇 孙学敏 王峰 白浩 王平

中国空间技术研究院西安分院 西安 710000

国内会议

2010’全国第十三届微波集成电路与移动通信学术会议

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2010-10-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)