聚焦纹影景深的探讨
在纹影技术中，聚焦纹影具有流场视域大、抗光波干扰能力强、成本低等特点，其中最主要的特点是聚焦特性，表现为在较小的景深范围内成像清晰，景深之外的扰动成像模糊，这有效的减少了流场以外扰动的干扰。 本文介绍了聚焦纹影技术的基本原理，推导了聚焦纹影系统中景深的分析过程，讨论了各个系统参数对景深的影响，同时对传统纹影系统的景深与聚焦纹影的景深作比较，验证了聚焦特性方面的优势，为聚焦纹影的应用提供设计依据，具有一定的参考价值。
聚焦纹影 流动显示 景深 纹影
吴文堂 叶继飞 蒋冠雷
装备指挥技术学院研究生院 北京 101416 装备指挥技术学院基础部 北京 101416
国内会议
广州
中文
106-110
2010-12-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）