暗室处理常见缺陷的产生及其预防

摘要：

文中列示了射线检测底片暗室处理常见缺陷，分析了产生缺陷的原因，通过对暗室处理过程中各个环节的控制，减少了射线底片的缺陷，提高射线底片质量，确保射线检测的一次成功率。

关键词： 暗室处理 射线底片 缺陷处理

作者: 张爱秀 罗瑞霞

作者单位: 山东电力建设第二工程公司，济南 250100

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届电站焊接学术讨论会

会议地点: 济南

会议语种:中文

页码: 315-317

在线出版日期: 2010-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）