GaSb薄膜特性的研究
GaSb的禁带宽度是0.72eV,为低禁带半导体,是红外探测器和光伏电池的主要材料。用传统的方法获得GaSb电池的代价很高。本文采用共蒸发的方法在衬底上成功制备Gasb薄膜。分别对在相同蒸发源反应温度,不同衬底上得到的GaSb薄膜以及相同村底,不同蒸发源反应温度下得到的薄膜分别进行XRD以及红外光谱分析,得出不同衬底和温度的变化对薄膜择优取向和晶粒尺寸的影响,寻求制备GaSb薄膜的最佳条件。
共蒸发 择优取向 晶粒尺寸 禁带宽度 GaSb薄膜
阮建明 隋妍萍 蔡宏琨 乔在祥 张德贤
南开大学电子科学与微电子系,天津 300000
国内会议
南京
中文
797-800
2010-11-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)