低温RF-PECVD沉积非晶硅锗及其太阳电池的研究
采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,衬底温度在180℃沉积非晶硅锗薄膜材料及太阳电池。本文研究了反应气体中的锗。
非晶硅锗 低温沉积 锗烷浓度 太阳电池 化学气相沉积 衬底温度 薄膜材料
王先宝 张建军 倪牮 曹字 李超 耿新华 赵颖
南开大学光电子薄膜器件与技术研究所 南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室 南开大学光电信息技术科学教育部重点实验室,天津 300071
国内会议
南京
中文
1510-1513
2010-11-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)