多晶硅还原沉积优化研究

摘要：

针对改良西门子法工艺，通过软件模拟和生产实验研究相结合，探讨了三氯氢硅氢还原沉积工艺和沉积设备对多晶硅生产单位电耗等生产关键指标的影响，并对还原工艺优化提出了改进建议。

关键词： 三氯氢硅 软件模拟 多晶硅生产 沉积工艺

作者: 陈其国

作者单位: 江苏中能硅业科技发展有限公司,保利协鑫能源控股有限公司成员公司,江苏徐州 221004

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届中国光伏大会暨展览会

会议地点: 南京

会议语种:中文

页码: 299-302

在线出版日期: 2010-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）