射频激发热丝化学气相沉积制备硅薄膜过程中光发射谱的研究

摘要：

采用射频(RF)激发，在热丝化学气相沉积(HWCVD)制备微晶硅薄膜的过程中产生发光基元，测量了RF激发HWCVD(RF-HWCVD)的光发射谱，比较了相同工艺条件下RF-HWCVD和等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的光发射谱，分析了热丝温度和沉积气压对RF-HWCVD光发射谱的影响。结果表明，在比较低的射频功率下，RF-HWCVD发射光谱反映了HWCVD特点，能够解释气压变化与微晶硅薄膜微结构的关系，是研究HWCVD气相过程的有效方法之一。

关键词： 微晶硅薄膜 化学气相沉积 光发射谱 射频激发 硅太阳能电池

作者: 李天微 刘丰珍 朱美芳

作者单位: 中国科学院研究生院材料科学与光电技术学院,北京 100049

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届中国光伏大会暨展览会

会议地点: 南京

会议语种:中文

页码: 428-432

在线出版日期: 2010-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）