柔性薄膜太阳电池非晶硅层的激光刻蚀研究
采用倍频Nd.YVO4脉冲激光,对具有Ag/ZnO背反层的柔性非晶硅薄膜太阳电池非晶硅层进行激光刻蚀研究。在激光刻蚀非晶硅的实验中,通过改变激光功率、激光重复频率、扫描速度、聚焦位置等参数,优化激光刻蚀工艺,得到线宽60μ,周围无明显尖峰(3D激光扫描显微镜),满足薄膜太阳电池工艺要求的刻蚀线。
薄膜太阳电池 激光刻蚀 非晶硅薄膜
马宁华 陈亮 叶晓军 刘成 陈鸣波
上海空间电源研究所,上海 200233
国内会议
南京
中文
499-502
2010-11-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)