关键词： 短沟效应 金属源漏 场效应管 源漏电阻
作者: 王燕 田立林
作者单位: 清华大学微电子学研究所
会议类型: 国内会议
会议名称: 第一届全国纳米技术与应用学术会议
会议地点: 厦门
会议语种:中文
页码: 19～22
在线出版日期: 2000-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）