频率响应法研究噻吩在HZSM-5分子筛上的吸附行为
采用频率响应技术和智能重量分析仪研究了噻吩在HZSM-5分子筛上的吸附行为。利用智能重量分析仪测得噻吩在373 K的吸附等温线。在(0．2～6．0)×133．3 Pa压力范围及302～602 K温度范围内，利用频率响应技术测得了噻吩在HZSM-5分子筛上吸附的频率响应谱。结果显示，噻吩在HZSM-5分子筛上的传质过程的速率控制步骤为吸附过程，同时存在高频吸附和低频吸附两个不同的吸附过程。结合吸附等温线和Langmuir速率方程得出，高频吸附符合Langmuir模型，为单层吸附，高频吸附位N(2)s为0．922 mmol／g，高频吸附作用为噻吩和SiOH之间的作用；低频吸附不符合Langmuir模型，低频吸附位N(1)5为0．588 mmol／g，低频吸附作用为噻吩和SiOHAl之间的作用。噻吩在HZSM-5分子筛上的吸附以高频吸附为主。
噻吩 频率响应 分子筛 吸附等温线
赖君玲 宋丽娟 刘道胜 秦玉才 孙兆林
中国石油大学 化工学院，山东 东营 257061 辽宁石油化工大学，辽宁 抚顺 113001 辽宁石油化工大学，辽宁 抚顺 113001
国内会议
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362-365
2010-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）