噻吩在改性Y分子筛上的脱附行为
采用程序升温脱附(TPD)和红外(FT-IR)技术测定了噻吩在NaY、NiY和CeY上的程序升温脱附曲线及其FT-IR谱图。对非等温TPD曲线进行解析，并采用活化能分布模型计算了噻吩在这3种吸附剂上的脱附活化能。结果表明，噻吩在NaY上为物理吸附，其脱附活化能较小；NiY与CeY表面对噻吩的吸附是非均匀的，有多个活性中心，噻吩在这2种吸附剂上除物理吸附外，均有化学吸附，且其脱附活化能较大；噻吩在CeY分子筛上的吸附脱除主要以催化反应为主，在NiY分子筛上的吸附脱除主要以与S-M的相互作用为主。
噻吩 分布活化能 分子筛 程序升温脱附
刘道胜 宋丽娟 孙兆林
中国石油大学 化学化工学院，山东 东营 257061 辽宁石油化工大学 石油化工重点实验室,辽宁 抚顺 113001
国内会议
北京
中文
366-368
2010-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）