缺陷的存在及位置对TiO2双层薄膜光催化性能的影响研究
半导体材料的光催化性能与半导体的缺陷以及能级状况密切相关异相催化条件下，表面缺陷易被修复而失去，越来越多的研究者正把目光投向了亚表面缺陷(subsurface defect)的研究。因此，本研究通过调控TiO2薄膜的结构缺陷，来考察体相缺陷对薄膜光催化性能的具体影响机理。利用低温等离子体处理在TiO2薄膜的层与层之间引入缺陷，从而制备带有“界面缺陷”的TiO2双层薄膜。这样制得的“界面缺陷”不仅具有“表面缺陷“的一些特征，同时还可能因与表面隔离而显著延长缺陷寿命，给制备和分析亚表面缺陷对TiDz薄膜光催化性能的影响提供了一个新的思路及方法。
光催化性能 结构缺陷 低温等离子体 薄膜
庄建东 王继鑫 田勤奋 谢丽燕 祝淑颖 呼艳华 刘平
福州大学光催化研究所,福州 350002
国内会议
昆明
中文
65-66
2010-08-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）