纳米多孔WO3薄膜制备及其光电性质

摘要：

采用阶跃加压阳极氧化法在钨片表面制备了不同结构和形貌的纳米多孔WO3薄膜，利用场发射扫描电镜和稳态光电流谱研究了其结构和光电性质。结果表明，50 V电压和含0.5wt％NaF电解质条件下获得纳米多孔WO3薄膜经450℃退火后，在可见光条件下具有良好的光电性能，其光电流密度为结晶态WO3致密薄膜的4.75倍。

关键词： 阳极氧化 纳米多孔薄膜 三氧化钨 光电性质

作者: 李文章 李洁 王旋 张姝娟 陈启元

作者单位: 中南大学化学化工学院,有色金属资源化学教育部重点实验室,长沙 410083 中南大学化学化工学院,有色金属资源化学教育部重点实验室,长沙 410083 沈阳铝镁设计研究院,沈阳 110001

会议类型: 国内会议

会议名称: 2010年全国太阳能光化学与光催化学术会议

会议地点: 昆明

会议语种:中文

页码: 327-328

在线出版日期: 2010-08-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）