纳米网状硫铟锌三元化合物光电薄膜材料的原位制备及性能研究
采用溶剂热法在ITO导电玻璃基底上成功地原位制备出了由纳米薄片(20~30nm厚)组成的网状ZnIn2S4三元化合物光电薄膜材料,网状薄膜材料的孔隙度在100~400nm之间。制备的薄膜材料的吸收边在520 nm,由此推算出其带隙能为2.57eV。
溶剂热法 光电薄膜 原位制备 三元化合物 纳米薄片
贾会敏 何伟伟 雷岩 陈雪武 高远浩 郑直
许昌学院表面微纳米材料研究所,河南 许昌 461000 许昌学院 化学化工学院,河南 许昌 461000
国内会议
昆明
中文
409-410
2010-08-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)