全氟辛酸在氧化铟上光催化降解的机理研究
对于全氟辛酸(PFOA)这一持久性有机污染物,发现In2O3半导体材料可使其有效降解;并对降解机理进行了研究。
全氟辛酸 氧化铟 氧化钛 光催化降解 紫外光催化
李晓芸 李振民 邵田 张彭义
清华大学环境科学与工程系,环境模拟与污染控制国家重点联合实验室,北京 100084
国内会议
昆明
中文
471-472
2010-08-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
全氟辛酸 氧化铟 氧化钛 光催化降解 紫外光催化
李晓芸 李振民 邵田 张彭义
清华大学环境科学与工程系,环境模拟与污染控制国家重点联合实验室,北京 100084
国内会议
昆明
中文
471-472
2010-08-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)