半导体Si单晶方籽晶定向切割工艺
在拉制半导体级Si单晶生产中,必须用晶向偏离度准确的籽晶来引拉晶体,方能获得所要求的单晶棒。简述了以”110”,”112”为基准面,定向切割(111),(100)晶向籽晶的工艺。该工艺克服了原工艺以(111)或(100)为基准面切割籽晶存在的晶向偏离度不能人为控制的主要问题。从而可获得晶向偏差小于0.5°的籽晶。
晶向籽晶 定向切割工艺 半导体 硅单晶
刘京生
陕西华山半导体材料有限责任公司,西安 710065
国内会议
杭州
中文
135-137
2010-07-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)