磁控溅射Ti-Si-N超硬膜的研究

摘要：

本文用钛-硅复合靶，通过控制反应磁控溅射的各工艺参数制得了一系列Ti-Si-N膜，并借助能谱仪(EDS)、X射线衍射(XRD)，纳米压入仪和划痕仪对膜层的成分、结构和力学性能进行了分析。结果发现，可方便地通过改变氮气分压的方法来调整Ti、Si元素含量比、微观组织结构及力学性能.少量氮气的加入能制得纳米硬度高达53GPa的Ti-Si-N超硬膜，而随着氮气分压的增加，膜层中TiN相和Si3N4相的比例减小，纳米硬度逐渐下降，同时，TiN晶粒的平均尺寸也逐渐减少。

关键词： Ti-Si-N膜 氮气分压 磁控溅射 纳米压入

作者: 蔡珣 徐晔

作者单位: 上海交通大学材料科学与工程学院 200240

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国典型零件热处理学术及技术交流会暨第七届全国热处理学会物理冶金学术交流会

会议地点: 西宁

会议语种:中文

页码: 145-149

在线出版日期: 2009-07-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）