电子束蒸发二氧化硅薄膜的制备及其驻极体特性研究
郝天亮 陈钢进 肖慧明
浙江大学 分析测试中心,浙江 杭州 310028 杭州电子科技大学 材料物理研究所,浙江 杭州 310018
国内会议
长沙
中文
183-185
2010-10-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
郝天亮 陈钢进 肖慧明
浙江大学 分析测试中心,浙江 杭州 310028 杭州电子科技大学 材料物理研究所,浙江 杭州 310018
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