纳米抗菌技术在印染后整理中开发应用

摘要：

抗菌后整理技术对纺织品进行功能处理的一项重要技术，在纺织品领域的应用越来越广泛。本文主要介绍抗菌技术在纺织品方面的应用情况、抗菌后整理技术在印染工序中的应用方法以及通过后整理得到的抗菌效果评价。

关键词： 纳米抗菌技术 功能织物 后整理技术

作者: 李毕忠 高海霞

作者单位: 北京崇高纳米科技有限公司

会议类型: 国内会议

会议名称: 广东德美第六届全国印染行业新材料、新技术、新工艺、新产品(后整理专题)技术交流会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 289-292

在线出版日期: 2007-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）