浸没式光刻机浸液控制技术研究

摘要：

浸没式光刻机，通过在最后一片投影物镜和硅片之间填充高折射率的液体，来提高光刻的分辨率。在光刻过程中，浸没流场作为光路系统的一部分，必须维持高度的洁净和稳定。作为浸没式光刻的核心技术之一，浸液控制是实现浸没流场稳定和均一的关键。本文围绕本课题组在浸液控制关键技术上的进展展开论述，并针对曝光工艺要求，提出了浸液控制系统的设计方案。

关键词： 浸没式光刻机 浸液控制系统 浸没流场 曝光工艺

作者: 陈晖 陈文昱 傅新

作者单位: 浙江大学流体传动及控制国家重点实验室 杭州 310027

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届全国流体传动与控制学术会议

会议地点: 兰州

会议语种:中文

页码: 1-5

在线出版日期: 2010-08-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）