X射线荧光光谱(XRF)法分析碳化硅陶瓷中的氧

摘要：

X射线荧光光谱（XRF）法是一种可以进行化学成分检测的方法，在许多领域都得到成功应用。本文作者采用用XRF仪器，通过测量铑的康普顿散射线(RhKαC)强度的变化，对SiC陶瓷中的氧含量进行定量分析。

关键词： X射线荧光光谱法 碳化硅陶瓷 化学成分检测 氧含量 定量分析

作者: 申如香 卓尚军 盛成

作者单位: 中国科学院上海硅酸盐所，上海，200050

会议类型: 国内会议

会议名称: 第八届全国X射线荧光光谱学术报告会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 76

在线出版日期: 2010-09-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）