Nikon 步进光刻机光刻工艺参数的优化

摘要：

光刻工艺由于工序繁多，涉及复杂的光化学反应和物理过程，所以优化工艺参数比较困难。本文基于NIKON公司的NSR2005i9c步进式光刻机进行了一系列实验，对影响亚微米光刻图形效果的涂胶、前烘、曝光、后烘、显影、硬烘等工艺过程的各种因素进行了分析，得到了优化的工艺参数，提高了光刻工艺水平。

关键词： Nikon步进光刻机 光刻工艺 工艺参数 优化设计

作者: 曹江田 王姝娅 张国俊 管利众

作者单位: 电子科技大学 电子薄膜与集成器件国家重点实验室 成都 610054 兰州军区 陕西西安 710077 电子科技大学 电子薄膜与集成器件国家重点实验室 成都 610054 兰州军区 陕西西安 710077

会议类型: 国内会议

会议名称: 2009四川省电子学会半导体与集成技术专委会学术年会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 9-13

在线出版日期: 2009-11-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）