引导层Ta的沉积条件对磁性层Co77Pt23取向及磁性能的影响
作为Co基合金垂直磁记录介质中广泛采用的下底层Ru薄膜的取向对控制磁性层c轴垂直薄膜生长有着重要的作用。引导层Ta对决定Ru下底层(0002)取向起到至关重要的作用,但是相对研究较少。采用磁控溅射法在cornin97059基板上沉积Co77Pt23/Ru/Ta多层薄膜,考察了Ta层的溅射功率、气压和沉积厚度等工艺参数对Ru层和Co层c轴取向及Co77Pt23层磁性能的影响。X射线结果表明,数纳米厚的Ta层可以促进Ru层的(0002)取向,进而提高磁性层c轴(0002)的取向度。在功率适当、气压较低的条件下沉积Ta,获得的Ru和Co77Pt23层均形成良好的(0002)织构,多层膜Co77Pt23/Ru/Ta表现出垂直记录特征。振动样品磁强计(VSM)测试表明,薄膜垂直取向的磁滞回线矩形比随Co77Pt23(0002)峰强的增加而增大。
垂直磁记录 Ru下底层 Ta引导层 Co基合金 磁控溅射法 磁性能
肖娜 杨波 裴文利 任玉平 赵骧 秦高梧
东北大学 材料各向异性与织构教育部重点实验室,辽宁 沈阳 110004
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2009-11-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）