超声波原位插层制备硅树脂/蒙脱土纳米复合材料

摘要：

采用超声波技术,原位插层聚合法制备了甲基苯基硅树脂/有机蒙脱土(OMMT)纳米复合材料。利用X射线衍射(XRD),透射电镜(TEM)手段研究了复合材料内部结构以及超声波时间对蒙脱土分散性影响。结果表明,蒙脱土片层间距随着超声波时间增加而增加,当超声波时间＜20min时,有机蒙脱土片层以有序的插层型存在,形成插层型的聚合物/蒙脱土纳米复合材料(PLSN);超声波时间＞30min时,有机蒙脱土片层被剥离,无序地分散在硅树脂基体中,形成剥离型的聚合物/蒙脱土纳米复合材料。

关键词： 有机蒙脱土 硅树脂 纳米复合材料 超声波 原位插层聚合

作者: 李小辉 袁新华 曹顺生 胡杰 盛维琛 刘政

作者单位: 江苏大学 材料科学与工程学院,江苏 镇江 212013 Department of Engineering Materials,The University of Sheffield,Sir Robert Hadfield Building,Mappin

会议类型: 国内会议

会议名称: 2009全国功能材料科技与产业高层论坛

会议地点: 江苏镇江

会议语种:中文

页码: 310-312

在线出版日期: 2009-11-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）