缝隙对屏蔽效能影响的分析及改善
本文首先理论分析了屏蔽室搭接过程中缝隙对屏蔽效能的影响,利用单层屏蔽的平面模型及其计算公式计算分析了缝隙对屏蔽效能的影响。结果表明：相对于没有缝隙的铜箔材料,有缝隙的铜箔材料对屏蔽室屏蔽效能有很大影响。针对这一结果,对缝隙的影响提出了解决方案,并利用网络／频谱／阻抗分析仪4396B实际测试有缝隙的铜箔改善前后的屏蔽效能,比较测试结果表明,提出的解决方案能够很大程度补偿缝隙损失。最后,用软件FEKO对改善后铜箔材料屏蔽室整体屏蔽性能仿真分析,验证了方案的可行性。
电磁屏蔽 屏蔽室搭接 缝隙结构 电磁测量
王业飞 王群 唐章宏 李司洋
北京工业大学 材料科学与工程学院,北京 100124
国内会议
天津
中文
131-133
2009-04-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）