陶瓷表面金属化镀层中Ti原子定向扩散的研究

摘要：

对辉光离子轰击下Si3N4陶瓷表面复合电镀层中Ti原子的扩散现象及扩散机理进行了研究。研究发现,辉光离子轰击不仅可使电镀镍钛层中Ti原子向Si3N4陶瓷界面作定向扩散,在陶瓷界面处形成Ti原子的富集,而且可以促进陶瓷界面化学反应的进行,生成Ni3Si、Ni2Si、NiSi2和Ti5Si3等多种化合物。进一步分析认为,辉光离子轰击在镀层表面形成的空位浓度梯度,是造成Ti定向扩散和促进界面反应的主要原因。

关键词： 离子轰击 复合电镀层 陶瓷界面 化学反应 扩散机理

作者: 张永清 阴生毅 任家烈 李玉竹 郑晓阳

作者单位: 中国科学院 高功率微波源与技术重点实验室,北京 100190 清华大学 机械工程系,北京 100084

会议类型: 国内会议

会议名称: 2009现代焊接科学与技术学术会议

会议地点: 哈尔滨

会议语种:中文

页码: 121-123

在线出版日期: 2009-01-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）