MgO(001)表面上沉积MgO薄膜过程的分子动力学模拟

摘要：

采用分子动力学方法模拟了MgO分子连续沉积于MgO(001)表面上的薄膜生长过程,分析了衬底温度和分子入射能对MgO分子在衬底表面上的扩散能力以及对衬底表面覆盖率的影响。模拟结果表明,随着衬底温度的升高,在衬底表面上沉积的MgO分子扩散能力增强,MgO薄膜层中空位缺陷变少。低温下,分子入射能的增大有助于提高衬底表面覆盖率;高温下,表面覆盖率随入射能增大到3.0 eV时达到最大值,入射能继续增大,表面覆盖率减小。

关键词： 薄膜生长 分子动力学 计算机模拟 表面扩散

作者: 刘美林 张宗宁 李蔚 赵骞 祁阳 张林

作者单位: 东北大学理学院,沈阳,110004 沈阳工业大学理学院,沈阳,110178

会议类型: 国内会议

会议名称: 2008中国材料研讨会—计算材料分册

会议地点: 广州

会议语种:中文

页码: 199-203

在线出版日期: 2008-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）