靶电流对掺钨类金刚石膜的结构与摩擦学行为的影响
利用真空阴极电弧+磁控溅射+阳极层条形离子源制备了带梯度过渡层的掺钨类金刚石(DLC)膜，并研究了靶电流对掺钨DLC膜结构和性能的影响。 结果表明：制备的掺钨DLC膜光滑致密，表面存在1～2μm的液滴。靶电流不大于3.5A时，随着靶电流的增加，掺钨DLC膜的钨含量逐渐增加，但sp3的含量基本不变；靶电流为5A时，制备的薄膜成分接近WC的理想化学计量比，薄膜中的sP3含量增加到48”％”。当靶电流不大于2A时，靶电流对掺钨DLC膜的显微硬度和摩擦系数影响较小；在高的靶电流条件下，掺钨DLC膜的显微硬度和摩擦系数随着靶电流的增加而明显增大。
掺钨类金刚石膜 靶电流 摩擦系数 力学性能 薄膜成分
付志强 王成彪 杜秀军 王伟 邬苏东 于翔 彭志坚 林松盛 代明江
中国地质大学(北京) 工程技术学院，北京 100083 广州有色金属研究院，广州 510651
国内会议
重庆
中文
250-253,257
2008-06-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）