高温超导磁控溅射装置的探讨

摘要：

超导磁控溅射装置放电空间的磁场比传统磁控溅射装置高一个数量级以上,因此可以在很低的气压和很长的靶基板间距下制备高质量薄膜.本文对超导磁控溅射装置的结构设计、电磁设计、放电特性仿真和镀膜应用等问题进行了讨论,并提出一种采用跑道线圈的高温超导矩形平面磁控溅射装置,通过对磁体磁场的初步计算发现,该装置可以在靶材表面产生超过0.4T的磁场,能够满足高磁场磁控溅射的磁场需求.

关键词： 高温超导 磁控溅射装置 磁场 等离子体 镀膜应用

作者: 邱清泉 肖立业 黄天斌 张国民 李晓航

作者单位: 中国科学院应用超导重点实验室,北京 100190 中国科学院电工研究所,北京 100190

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届超导学术交流会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 112-116

在线出版日期: 2009-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）