Ti6Al4V合金阳极氧化膜的生长机制
研究了HF和CrO3电解液体系中Ti6Al4V阳极氧化膜生长规律. 采用场发射扫描电镜(FESEM)对氧化膜表面形貌进行观察:采用电化学工作站测定了不同电解液体系中电压-时间曲线和电流-时间曲线。研究结果表明:在一定的CrO3浓度和电流密度下,Ti6Al4V阳极氧化生成阻挡层+多孔层氧化膜结构存在两个临界HF浓度。在HF浓度低于极小临界值时,阳极氧化生成致密阻挡层:在HF浓度大于极大临界值时形成多孔结构;而HF浓度在极小值和极大值之间的范围内则形成阻挡层+多孔层的氧化膜结构。在不含HF的电解液中以连续成核形成的氧化膜是连续无孔的;电解液中HF浓度在0.3”％”到4.4”％”的范围内,以瞬时成核形成多孔的氧化膜,氧化膜以三维成核的模式生长。
多孔氧化膜 阻挡层 三维成核 生长模式
郑国渠 李文杰 曹华珍
浙江工业大学化学工程与材料学院 杭州 310032
国内会议
桂林
中文
199-204
2009-10-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）